光氧催化設(shè)備廢氣處理工藝概述

 

光氧催化設(shè)備廢氣處理工藝概述——光氧催化設(shè)備是繼固體、液體和氣體之后的***四種物質(zhì)狀態(tài)。當施加的電壓達到氣體的放電電壓時，氣體被分解，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合物。

 

 

在放電過程中，雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個系統(tǒng)出現(xiàn)低溫狀態(tài)，故稱為光氧催化設(shè)備。光氧催化設(shè)備降解污染物是使用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣污染物的影響,因此,污染物的分子在很短的時間內(nèi)攻擊分化,并攻擊不同的后續(xù)影響達到污染物降解的目的。

 

 

光氧催化設(shè)備富含較高的材料,如高能電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子,如排氣污染物的物質(zhì)這些能量攻擊高,污染在很短的時間內(nèi)攻擊分化,并攻擊隨后的響應(yīng)達到污染物的意圖。

 

 

 

與傳統(tǒng)的光氧催化設(shè)備電暈放電技術(shù)相比，DBD等離子體放電量為電暈放電的50倍，放電密度為電暈放電的130倍。因此，傳統(tǒng)的光氧催化設(shè)備技術(shù)只能用于室內(nèi)空氣異味管理，與其他光氧催化設(shè)備技術(shù)相比，DBD等離子體技術(shù)用于工業(yè)過程廢氣處理。