光氧催化設(shè)備的清洗周期

 

光氧催化設(shè)備的清洗周期一般約為3個(gè)月。清洗周期越短，氣味處理的功率越高。假如長期不清洗，將會(huì)有許多安全隱患。待清洗的洗滌劑可用一般熱水和苛性鈉完結(jié)。水溫控制在50°，由于水溫文苛性鈉處理才能是水溫，能夠即將清洗的設(shè)備放在清洗槽中。

 

光氧催化清洗的***要過程是堵截電源，翻開檢查門，取出要清洗的設(shè)備，然后將其浸入苛性鈉中半小時(shí)，然后用水完全沖刷并用天然辦法干燥，以保證設(shè)備干燥。能夠?qū)⑵浞呕豒V光解設(shè)備中，然后完結(jié)簡略的清洗作業(yè)。裝置光氧催化設(shè)備后，制造商將為企業(yè)進(jìn)行清洗和保護(hù)訓(xùn)練，由于清洗過程并不困難，因而一般人都能夠操作，這是光氧催化設(shè)備中廣泛運(yùn)用的因素之一。